Mục tiêu phún xạ phẳng Titan Silicon

Mục tiêu phún xạ phẳng Titan Silicon Mô tả

Titan silicide là một hợp chất vô cơ thường được sản xuất bằng cách sử dụng các kỹ thuật silicide trên các dây chuyền silicon và polysilicon để giảm điện trở tấm của các kết nối bóng bán dẫn cục bộ. Các mục tiêu phún xạ phẳng Titan Silicon thường được sản xuất bằng công nghệ HIP tiên tiến, có một loạt ưu điểm như độ cứng cao, độ mài mòn thấp, khả năng chống sốc nhiệt tuyệt vời, độ tinh khiết cao, hạt mịn và đồng đều, tuổi thọ cao, khả năng chống oxy hóa cao và độ phủ cao chất lượng . Mục tiêu phún xạ phẳng Titan Silicon là một vật liệu tuyệt vời cho lớp phủ kim loại. Các công cụ phần cứng được phủ bởi nó có khả năng chống mài mòn cao, do đó chúng có thể hoạt động ở tốc độ cắt cao và thậm chí có thể gia công các hợp kim niken và vật liệu titan rất cứng. Các mục tiêu phún xạ phẳng titan silicon cũng rất phù hợp để ứng dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn, trang trí, hiển thị, đèn LED và các thiết bị quang điện, lớp phủ thủy tinh và các ngành công nghiệp khác.

Mục tiêu phún xạ phẳng titan silicon Thông số kỹ thuật:

Hình ảnh mục tiêu phún xạ phẳng titan silicon:

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ titan silicon phẳng, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá cả, báo giá, để bán