Mục tiêu vonfram cho máy X-Ray

Mục tiêu vonfram cho máy X-Ray Mô tả

Thiết bị X-quang là loại thiết bị được sử dụng rộng rãi trong y tế, nghiên cứu khoa học và công nghiệp. Thành phần cốt lõi của nó là vật liệu mục tiêu và cực dương, và vật liệu vonfram là vật liệu mục tiêu được sử dụng phổ biến nhất. Sử dụng mục tiêu vonfram cho máy X-Ray có thể chặn dòng electron tốc độ cao để tạo ra tia X để kiểm tra và dẫn ra bức xạ nhiệt phát ra. Nó cũng có thể cải thiện hiệu suất vận hành, độ rõ của hình ảnh và độ ổn định của thiết bị của máy quang phổ huỳnh quang tia X. . Nếu cần thiết, xin vui lòng liên hệ với chúng tôi qua email.

Các tính năng của mục tiêu vonfram cho máy X-Ray:

1. Điểm nóng chảy cao: Mục tiêu vonfram có thể chịu được sự bắn phá của chùm tia điện tử năng lượng cao mà không dễ bị nóng chảy.
2. Mật độ cao và hệ số nguyên tử cao: có thể tạo ra năng lượng cao hơn và cải thiện chất lượng hình ảnh
3. Hiệu suất tản nhiệt thấp và dẫn nhiệt tốt: nhiệt dư thừa có thể được tiêu tan nhanh chóng để tránh hư hỏng thiết bị do quá nóng
4. Chống ăn mòn và độ bền tốt: có thể hoạt động ổn định trong môi trường khắc nghiệt trong thời gian dài
5. Tán xạ ngược nhỏ hơn: giúp giảm tác động của tán xạ và cải thiện độ rõ của hình ảnh

Mục tiêu vonfram cho máy X-Ray Thông số kỹ thuật:

Mục tiêu vonfram cho hình ảnh máy X-Ray:

Chú phổ biến: mục tiêu vonfram cho máy X-quang, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá, báo giá, để bán