Mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao

Độ tinh khiết cao Titanium Sputtering Target Mô tả &ứng dụng

Titan là một kim loại chịu lửa thuận từ với độ dẻo dai mạnh mẽ và độ bền cao, đặc biệt là trong môi trường không có oxy. Đối với các mục tiêu, độ tinh khiết hóa học của kim loại càng cao thì độ dẫn điện của màng làm từ nó càng tốt. Độ tinh khiết của các mục tiêu phún xạ titan cao tới 99, 99%. Nó chủ yếu được sản xuất bằng phương pháp làm mát và nấu chảy chùm tia điện tử, và cuối cùng các kích cỡ và thông số kỹ thuật khác nhau của các mục tiêu được thực hiện bằng cách xử lý cơ học khác nhau. Màng mỏng được điều chế bởi mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao do công ty chúng tôi sản xuất không chỉ có độ sáng cao, độ bám dính mạnh mẽ, độ dày đồng đều và độ bền, mà còn có độ dẫn điện mạnh mẽ, chống mài mòn và chống ăn mòn. Mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao là một trong những vật liệu cốt lõi để chuẩn bị các mạch tích hợp, và được sử dụng rộng rãi trong lớp phủ công cụ phần cứng, lớp phủ ô tô, lớp phủ trang trí, lớp phủ thủy tinh, lớp phủ màn hình phẳng và các thiết bị bán dẫn và các lĩnh vực khác.

Mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết caoKỹ thuật:

Độ tinh khiết cao Titan Sputtering Hình ảnh mục tiêu:

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ titan có độ tinh khiết cao, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá cả, báo giá, để bán