Mục tiêu phún xạ vonfram Titan

Mục tiêu phún xạ vonfram Titan

FANMETAL cung cấp mục tiêu phún xạ nhôm vonfram hợp kim W - Ti được sử dụng trong hệ thống phủ PVD trong lĩnh vực bán dẫn. Hàm lượng Ti 10 phần trăm ~ 50 phần trăm, thông thường chúng tôi cung cấp chế phẩm WTi 90:10. Chúng tôi cũng cung cấp mục tiêu kim loại khác và vật liệu bay hơi đến độ tinh khiết cao 99,9999 phần trăm, mục tiêu kim loại quý (Au, Ag, Pt), dịch vụ liên kết mục tiêu, lót chén nung (đồng, molypden, vonfram, v.v.)

Quy trình mục tiêu phún xạ vonfram Titan:

Máy ép nóng thiêu kết của HP, cách nhiệt áp suất cao và nhiệt độ cao, tạo ra hợp kim titan vonfram mật độ tốt. Mật độ đạt hơn 99,5 phần trăm, gia công chính xác, mật độ tốt, độ tinh khiết tốt và bề mặt hoàn thiện tốt.

Lý do chính khiến chip bán dẫn chọn lớp chắn hợp kim titan vonfram mới và làm lớp liên kết khuếch tán là hợp kim có khả năng bám dính bề mặt tốt và đặc tính tản nhiệt tuyệt vời. Bằng cách này, sản phẩm được chuẩn bị sẽ có hiệu suất toàn diện cao hơn.

Hình ảnh mục tiêu phún xạ vonfram Titan:

Tungsten Titan Sputtering Target là một hợp kim có ưu điểm của các kim loại chuyển tiếp vonfram và titan. Nó có mật độ và độ tinh khiết cao hơn, khả năng chống ăn mòn tốt hơn và hiệu ứng giãn nở thể tích nhỏ hơn, có thể làm giảm số lượng thay đổi trong quá trình sản xuất một cách hiệu quả. Sự hình thành các hạt trung bình có thể chuẩn bị thành công - màng chất lượng cao

Chú phổ biến: Tungsten Titanium Sputtering Mục tiêu, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá cả, báo giá, để bán