Mục tiêu phun vàng

FANMETAL cung cấp mục tiêu phun kim loại quý được sử dụng trong hệ thống lớp phủ PVD . Chẳng hạn như Au gold sputtering target, Ag silver sputtering target, Pt platinum sputtering target, Ir iridium sputtering target, Ru ruthenium sputtering target.

Gold Sputtering Mục tiêu của kim loại quý và hợp kim của chúng cho hệ thống dây điện và màng mỏng của các thiết bị bán dẫn, các thiết bị hiển thị phương tiện ghi âm, v.v., được sản xuất bằng cách tinh chế, rèn nóng chảy, xử lý cán hoặc luyện kim bột. Các mục tiêu Au, Pt, Pd, Ag được sử dụng cho các mạch tích hợp và mạch tích hợp quy mô lớn, và các mục tiêu hợp kim như CoCrPt, CoPt và CoPd được sử dụng để ghi từ tính.

Các mục tiêu có độ tinh khiết cao và mật độ cao bao gồm:

Mục tiêu phun nước (độ tinh khiết: 99,9%-99,999%)

Mục tiêu Noble Metal:

Platinum, Sliver, Gold Noble kim loại sputtering mục tiêu

Gold Sputtering Target Ảnh:

Các loại mục tiêu phun kim loại quý có độ tinh khiết cao:

Mục tiêu phun vàng (Au) Độ tinh khiết: 99,99-99,999%

Silver Sputtering Target (Ag) Độ tinh khiết: 99,99%

Iridium sputtering target (Ir) Độ tinh khiết: 99,95%

Mục tiêu phun palladium (Pd) Độ tinh khiết: 99,95%

Mục tiêu phun bạch kim (Pt) Độ tinh khiết: 99,99%

Rhodium sputtering target (Rh) Độ tinh khiết: 99,95%

Mục tiêu rutheni sputtering (Ru) Độ tinh khiết: 99,9%

Mục tiêu phun đồng bạc (Cu / Ag) Độ tinh khiết: 99,9%

Mục tiêu phun vàng-đồng (Au / Cu) Độ tinh khiết: 99,9%

Mục tiêu phun vàng-palladium (Au / Pd) Độ tinh khiết: 99,9%

Mục tiêu phun thiếc vàng (Au / Sn) Độ tinh khiết: 99,9%

Silver Palladium Sputtering Target (Ag/Pd) Độ tinh khiết: 99,9%

Chú phổ biến: mục tiêu phun vàng, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá cả, báo giá, để bán