Mục tiêu phún xạ Boron

Mục tiêu phún xạ Boron Mô tả

Quá trình phún xạ chủ yếu là để lắng đọng một màng mỏng vật liệu oxit hoặc kim loại phún xạ có độ tinh khiết cực cao lên một chất nền rắn khác, đồng thời kiểm soát việc loại bỏ và chuyển đổi vật liệu mục tiêu thành pha khí/plasma có hướng bằng cách bắn phá ion. Boron là một nguyên tố có hàm lượng thấp trong hệ mặt trời và vỏ trái đất. Nó là chất dẫn điện yếu ở nhiệt độ phòng và dẫn điện tốt ở nhiệt độ cao. Mục tiêu phún xạ Boron có các tính chất vật lý và hóa học tuyệt vời, điểm nóng chảy cao, kích thước hạt trung bình nhỏ nhất, khả năng chống ăn mòn ở nhiệt độ cao, độ bền tốt, tính dẫn điện tốt và hiệu suất chi phí cao. Đó là quá trình lắng đọng hơi hóa học (CVD) và lắng đọng hơi vật lý (PVD) ) để tạo ra các vật liệu chuẩn bị tuyệt vời. Các mục tiêu phún xạ Boron được sử dụng rộng rãi, chủ yếu trong ngành công nghiệp hạt nhân, công nghiệp sơn thủy tinh, công nghiệp thông tin điện tử, công nghiệp hóa chất, y sinh, công nghiệp hàng không vũ trụ, sản phẩm trang trí cao cấp và công nghiệp luyện kim, v.v.

Mục tiêu phún xạ Boron Thông số kỹ thuật:

Hình ảnh mục tiêu phún xạ Boron:

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ boron, nhà cung cấp, nhà sản xuất, nhà máy, tùy chỉnh, bán buôn, giá cả, báo giá, để bán