Mục tiêu lớp phủ là nguồn phún xạ tạo thành các màng chức năng khác nhau trên đế bằng cách phún xạ trong các điều kiện xử lý thích hợp thông qua phún xạ magnetron, mạ ion đa hồ quang hoặc các loại hệ thống phủ khác. FANMETAL có thể cung cấp các mục tiêu phủ kim loại khác nhau nhưMục tiêu phún xạ zirconi 99,95%, Mục tiêu phún xạ crom có độ tinh khiết caohoặc Mục tiêu phún xạ Boron 99,5%. Chào mừng bạn đến liên hệ với chúng tôi qua email.
1. Lớp phủ trang trí
Lớp phủ trang trí chủ yếu đề cập đến lớp phủ bề mặt của điện thoại di động, đồng hồ, kính, thiết bị vệ sinh, bộ phận phần cứng và các sản phẩm khác. Nó không chỉ có tác dụng làm đẹp màu sắc mà còn có chức năng chống mài mòn và chống ăn mòn. Các loại mục tiêu chính cho lớp phủ trang trí bao gồm: mục tiêu crom (Cr), mục tiêu titan (Ti), zirconium (Zr), niken (Ni), vonfram (W), nhôm titan (TiAl), mục tiêu thép không gỉ, v.v.
2. Lớp phủ dụng cụ và khuôn
Nó chủ yếu được sử dụng để tăng cường sự xuất hiện của các công cụ xử lý, có thể cải thiện đáng kể tuổi thọ của khuôn và chất lượng của các bộ phận được xử lý. Theo thống kê, tỷ lệ lớp phủ trên dụng cụ gia công ở các nước phát triển đã vượt quá 90%. Tỷ lệ phủ dụng cụ ở nước ta cũng không ngừng tăng lên và nhu cầu về vật liệu mục tiêu cho việc phủ dụng cụ cũng ngày càng mở rộng. Các loại chính là: mục tiêu TiAl, mục tiêu nhôm crom (CrAl), mục tiêu Cr, mục tiêu Ti, v.v.
3. Lớp phủ bảo vệ
Nó chủ yếu được áp dụng cho chất nền để bảo vệ và kéo dài tuổi thọ của nó. Màng bảo vệ bao gồm màng bảo vệ chống ăn mòn, màng bôi trơn và màng bảo vệ nhiệt. Màng phún xạ TiC và màng phún xạ BN thường được sử dụng làm lớp phủ có độ cứng cao trong các dụng cụ cắt và mài.
4. Lớp phủ điện
Mục tiêu phún xạ có thể được sử dụng để sản xuất vật liệu dẫn điện và màng điện môi, màng siêu dẫn và màng ITO trong các thiết bị bán dẫn và mạch tích hợp.
5. Lớp phủ tế bào năng lượng mặt trời
Hiện nay, pin mặt trời đã được phát triển qua nhiều thế hệ. Đầu tiên là pin mặt trời silicon đơn tinh thể, thế hệ thứ hai là pin mặt trời silicon vô định hình và silicon đa tinh thể, và thế hệ thứ ba là pin mặt trời màng mỏng. Quá trình phủ phún xạ là chuẩn bị màng cadmium Telluride (CdTe), màng đồng indium gallium selenide (CIGS) và asen. Phương pháp phổ biến nhất cho màng mỏng gali clorua (GaAs). Mục tiêu phún xạ CIGS là mục tiêu phún xạ được thể hiện bằng các ứng dụng năng lượng mặt trời. Nó bao gồm bốn nguyên tố kim loại là đồng (Cu), indi (In), gali (Ga) và selen (Se). Màng CIGS phún xạ trên pin mặt trời có ưu điểm là hấp thụ ánh sáng mạnh, ổn định phát điện tốt và hiệu suất chuyển đổi cao. Nó có thể làm cho pin mặt trời tạo ra điện trong thời gian dài trong ngày và tạo ra lượng điện lớn. Trong quá trình phủ, độ tinh khiết và chất lượng của mục tiêu phún xạ CIGS sẽ ảnh hưởng trực tiếp đến chất lượng màng được tạo ra.
