Lớp phủ phún xạ Magnetron là một loại phương pháp phủ hơi vật lý mới, sử dụng hệ thống súng điện tử để phát ra và tập trung các electron vào vật liệu cần phủ, để các nguyên tử phún xạ tuân theo nguyên tắc chuyển đổi động lượng, nhờ đó vật liệu có tính cơ học cao hơn. của cải. Vật liệu được mạ được gọi là mục tiêu phún xạ, chủ yếu bao gồm kim loại, hợp kim và hợp chất gốm. FANMETAL có thể cung cấp cho khách hàng các mục tiêu kim loại chất lượng cao nhưMục tiêu phún xạ crom tinh khiết, Mục tiêu phún xạ vàng,Mục tiêu phún xạ nhôm titanvà mục tiêu phún xạ đồng. Vui lòng gửi email cho chúng tôi để cho chúng tôi biết nhu cầu của bạn.
1. Tinh khiết
Độ tinh khiết là một trong những chỉ số hiệu suất chính của mục tiêu, bởi vì độ tinh khiết của mục tiêu có ảnh hưởng lớn đến hiệu suất của bộ phim. Tuy nhiên, trong các ứng dụng thực tế, các yêu cầu về độ tinh khiết của mục tiêu cũng khác nhau. Ví dụ: với sự phát triển nhanh chóng của ngành công nghiệp vi điện tử, kích thước của tấm silicon đã tăng từ 6", 8" lên 12" và chiều rộng dây đã giảm từ 0.5um xuống 0 .25um, 0.18um hoặc thậm chí 0.13um. Độ tinh khiết mục tiêu trước đó là 99,995 phần trăm. Nó có thể đáp ứng các yêu cầu quy trình của 0.35um IC, trong khi chuẩn bị {{15 }}.18um yêu cầu 99,999 phần trăm hoặc thậm chí 99,9999 phần trăm độ tinh khiết mục tiêu.
2. Hàm lượng tạp chất
Các tạp chất trong chất rắn mục tiêu và oxy và độ ẩm trong lỗ chân lông là nguồn gây ô nhiễm chính của màng lắng đọng. Vật liệu mục tiêu cho các mục đích khác nhau có các yêu cầu khác nhau đối với các hàm lượng tạp chất khác nhau. Ví dụ, các mục tiêu nhôm nguyên chất và hợp kim nhôm được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn có các yêu cầu đặc biệt về hàm lượng kim loại kiềm và hàm lượng nguyên tố phóng xạ.
3. Mật độ
Để giảm lỗ chân lông trong chất rắn mục tiêu và cải thiện hiệu suất của màng phún xạ, mục tiêu thường được yêu cầu phải có mật độ cao hơn. Mật độ của mục tiêu không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ phún xạ mà còn ảnh hưởng đến tính chất điện và quang của phim. Mật độ mục tiêu càng cao, hiệu suất của phim càng tốt. Ngoài ra, việc tăng mật độ và sức mạnh của mục tiêu làm cho mục tiêu có khả năng chịu ứng suất nhiệt tốt hơn trong quá trình phún xạ. Mật độ cũng là một trong những chỉ số hiệu suất chính của mục tiêu.
4. Kích thước hạt và phân bố kích thước hạt
Thông thường vật liệu mục tiêu là cấu trúc đa tinh thể và kích thước hạt có thể từ micron đến milimét. Đối với cùng một vật liệu mục tiêu, tốc độ phún xạ của mục tiêu có hạt mịn nhanh hơn tốc độ phún xạ của mục tiêu có hạt thô; và sự phân bố độ dày của màng được lắng đọng bằng phương pháp phún xạ với sự khác biệt về kích thước hạt nhỏ hơn (phân bố đồng đều) sẽ đồng đều hơn.
